二手 CHEMALUX 100 #9246757 待售

CHEMALUX 100是由SAG Associates设计的光阻系统，为开发複杂的集成电路模式提供了统一的平台。它由结合单体和固化剂或引发剂两种主要成分组成。当以特定比例结合时，结合单体和引发剂反应迅速，在暴露于光线后不久就形成硬化膜。这种硬化的薄膜提供了更好的抵御化学攻击和水分的屏障，使100成为半导体应用的理想光刻胶。CHEMALUX 100抵抗光刻步骤中使用的酸和碱，在设备制造过程中提供无与伦比的分辨率。光致抗蚀剂可以根据项目或设备的确切规格进行定制,从而使非常小的特征能够轻松准确地进行图样化和蚀刻。100的主要优点是沉积速度。它在基板上迅速传播，同时提供一层均匀的光致抗蚀剂以抵抗蚀刻和后处理。CHEMALUX 100足够稳定，可以用电子束图案化，允许形成极细的特徵尺寸（小至50 nm）。这提供了卓越的绝缘以及尺寸稳定性。100的可加工性非常好，可以方便地打印、涂覆和成像光刻胶。它的高分辨率使得它能够与广泛的激光和光学成像系统一起使用。其化学性质，加上易用性，使其成为深层蚀刻、高温处理和复杂口罩的理想光致抗蚀剂。综上所述，CHEMALUX 100是一种全面的光刻胶系统，可以根据各种需求量身定制。高分辨率，易于加工，沉积均匀，是各种半导体应用的绝佳选择。它的稳定性和耐化学性是不可能被击败的，使其成为集成电路阵列和器件制造的首选。