二手 CIBA GEIGY CLD 3 #94697 待售
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ID: 94697
优质的: 1997
Curtain coating system
Available in different modules: centering, preheating, coating chamber A, curing oven A, coating chamber B, curing oven B, cool down oven, etc.
PLC, software, PC and modem were upgraded in 2008
Windows based system
Panel size this system can handle:
Width: minimum 12" and max 24"
Length: minimum 12" and max 24"
Thickness : minimum 0.003" and max 0.2"
Thru put is 120 panels/hr
Space Lx W x H required for installation of this system:
Length of the line is: 42 feet
Width of the line is: 5 feet
Height of the line is: 10 feet
The exhaust is part of the system so no extra blowers are required
Operating manuals and electrical drawings are available in English
System is maintained by specialists
Currently installed in factory
1997 vintage.
CIBA GEIGY CLD 3是由CIBA GEIGY公司开发的光刻胶设备。它是一种负作用的光致抗蚀剂，这意味着未曝光的区域可以被去除，暴露的区域仍然存在，允许在光致抗蚀剂中通过有选择地曝光然后蚀刻掉不需要的部分来创建图样。该系统专为产生精细、错综复杂和高度精确的模式而设计,例如集成电路设计中的模式。它的工作原理是在基板表面涂覆一层感光材料薄膜。然后，这种薄膜被选择性地暴露在光线下，这种光线会分解暴露的材料，使未暴露的材料不受影响。然后使用化学溶剂、蚀刻工艺或其他方法去除暴露的材料。光致抗蚀剂的其余部分用作进一步蚀刻或加工的掩模。在CLD3的情况下，光致抗蚀剂由一种新颖的配方组成，使其高度稳定，曝光后移位最小，蚀刻阻力强。CIBA GEIGY CLD3光刻装置在正确曝光和开发后,可提供出色的分辨率和简单的处理。可达到的最小特征大小取决于所使用的设备,但可以小到0.25微米。它还具有较高的对比度打印，这意味着光刻胶层可以经受较强的蚀刻溶液，从而得到更可靠的蚀刻结果。这台机器还提供了一系列的灵活性，因为它可以与许多不同的基板一起使用，包括玻璃、金属、塑料和半导体材料。简而言之,CLD 3光刻工具是为集成电路和其他特定用途的设备创建精细、复杂且高度精确的图案的行业标准。它可靠、稳定，能够产生尺寸小至0.25微米的特性，可以在一系列基板上使用，并提供出色的对比度和蚀刻阻力。
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