二手 CND PLUS CIE-2C02(04)-C #9223039 待售

CND PLUS CIE-2C02 （04）-C是基于光刻工艺开发的正CIE-2C02 （04）的光刻系统。它提供了优于传统的正光抗蚀剂的蚀刻和化学电阻特性，允许精确和均匀的结构电路模式与低缺陷率。抗蚀剂基于三种组分的溷合物--一种可交联的聚合物、一种光阻滞剂和一种光活性化合物（PAC）。该溷合物与其他光化学和热稳定化合物结合，形成辐射敏感乳液。当暴露在光线或辐射下，乳液将能量转换成潜像。阻光剂有助于减少不需要的背景图像的形成，而PAC增加了抗蚀剂的附着力。交联聚合物有助于保护抗性免受光催化降解，提高其稳定性。当暴露在光线下，潜像被PAC放大，从而引发抗蚀剂的聚合。放大后的图像有助于创建高分辨率的图样,并具有精确和精确的线宽。在曝光后烘烤（PEB）过程中，在抗蚀剂熔点以下或以上产生的热量有助于进一步放大潜像，导致更好的分辨率。CND PLUS抗蚀剂具有优异的抗蚀性和蚀刻性能，对碱性和酸性蚀刻化学均具有抗性。它还具有改进的湿蚀刻和薄膜粘附到许多基材，最小的背景倾斜和低缺陷率。抗蚀剂与标准光刻胶加工兼容，包括防反射涂层、曝光后烘烤、显影后烘烤等。它还提供了比传统光刻胶更好的保质期和存储稳定性,从而实现了长期存储能力。综上所述，CND PLUS CIE-2C02 （04）-C是一种为光刻工艺提供高分辨率、精确度和均匀性的正光刻系统。该抗蚀剂具有出色的蚀刻、粘附和存储性能，为以最小的缺陷率制造电路模式提供了可靠的替代方法。