二手 CND PLUS CIE-2C3D02(04)-2 #9144079 待售

CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2是为深度紫外线（DUV）曝光应用而设计的高性能光阻设备。该系统提供卓越的性能和先进的功能，使光刻工艺在关键的深层紫外线/光刻应用更容易和更高效。CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光抗蚀剂单元由对UV辐射具有高反应性的UV敏感光聚合物组成，设计用于超分辨率成像。这台机器中的两个组件，一个碱溶性光致抗蚀剂和一个有机溶剂显影剂，产生一个极其耐用，高分辨率的图像。该光致抗蚀剂配制成对基材具有良好的附着力，对酸性和碱性清洁过程均具有抗性。显影剂提供了最优的曝光条件以及曝光辐照和未曝光区域之间的高对比度，使其适合深层紫外线光刻应用。CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光刻工具还具有多种其他特性，使其成为先进光刻应用的理想选择，包括高透明度、低剥离率、对酸和碱的异常低灵敏度以及对所有紫外线波长的高灵敏度。它易于溷合，直接应用于基板，使成像过程简单高效。此外，CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光刻材料具有出色的蚀刻阻力，适用于各种直接成像光刻工艺。CND PLUS CIE-2C3D02 （04）-2光刻胶模型是高分辨率、高可靠性、高质量深层紫外光刻应用的理想选择。它具有高的可用性、快速的曝光时间和出色的图像分辨率,使其成为多种DUV光刻应用（从半导体制造到MEMS和微电子）的理想选择。