二手 CND PLUS CIE-3C02(04)-C #293642075 待售

CND PLUS CIE-3C02 （04）-C是一种光刻胶设备，由光刻胶和显影剂组成，配制用于制造电子元件。它特别适用于先进的光刻工艺，如直接写入激光光刻、直接写入电子光束光刻等精密光刻工艺。光致抗蚀剂系统由聚合物基板和感光活性层组成。这层是由合成产生的紫外线或电子在光学上触发的。当暴露于适当的辐射下，发生改变聚合物底物分子结构的化学反应。该反应导致聚合物膜发生分子位移，在膜中提供浮雕结构。然后在适当的溶剂溶液中发展浮雕结构。应用于感光层的显影剂是含有二乙二醇单丁醚、丁基甲醚、丙二醇和表面活性剂的3组分的显影剂。这样就可以在整个抗蚀层被可靠移除的情况下进行全面开发。由于显影剂不溶于水，不溶解任何不需要的残留物。光敏装置具有较高的灵敏度，适用于高长宽比特征的设计。它还能抵抗热冲击,非常适合需要升高退火温度的织物。光刻机为光刻工艺提供精确、均匀的图样复制和高分辨率特征。抗蚀层赋予基材极好的附着力和化学电阻率，使基材保持化学污染物的清洁。用CND PLUS CIE-3C02 （04）-C构成的光刻胶层将在广泛的化学和机械暴露以及热和辐射暴露中保持稳定。底物中的分子移位还可以实现精确和可重复的模式复制，从而确保制造中使用的相同程序集的一致结果。CND PLUS CIE-3C02 （04）-C的光刻工具经济性强，是各种电子元件制造作业的理想选择。它在光刻工艺中的优异性能，加上化学和机械化学电阻率、粘合剂和辐射稳定性，使其成为电子器件制造的理想光刻资产。