二手 CND PLUS CIE-3D02(04)-C #9223036 待售

CND PLUS CIE-3D02 （04）-C是一种由酸性novolak树脂和光活性化合物两种组分组成的光敏设备。该系统是用于印刷电路板和其他电子元件制造过程中的安全方便的光刻胶来源。酸性novolak树脂是CND PLUS CIE-3D02 （04）-C的基材，一种提供结构支撑和粘附的交联材料。其热、化学和物理性质使其能够抵抗制造过程的条件。最重要的是，酸性novolak树脂稳定了光活性化合物，这是其在光致抗蚀剂单元中的主要功能。光活性化合物，常被称为感光剂，是光刻过程中的光敏成分。它负责在可见紫外线照射下化学结构的变化，使其在发展时可溶性和可移动。当与酸性novolak树脂结合使用时，光活性化合物会影响固化光刻胶的物理特性，使其具有柔韧性和耐用性。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C的设计能承受极高品质化学放大光刻胶的恶劣环境，表面起伏最小。适用于低压、低功率VLSI集成电路的高级集成。此外,它还提供均匀的过度曝光纬度,并可治愈不低于0.042µm的固化膜厚度,最大膜厚度为0.54µm。光刻机有旋转涂层和预烤保形涂层两种涂层方式。自旋涂层是将预溷合的光活性化合物和酸性novolak树脂倒入基材上，快速旋转形成均匀的光敏涂层网络的技术。预先烘烤的保形涂层方法是将预溷合的光致抗蚀剂倒在基板上，然后在炉子中干燥。在这两种方法中，高分辨率图像随后被投影并通过光源转移到光刻胶上。之后，光致抗蚀剂经过一种称为显影的化学处理，去除了光致抗蚀剂的裸露区域，留下了一个用于进一步制造的蚀刻面膜。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C提供了一种可靠的高质量的光致抗蚀剂来源，并需要使用光源和化学处理。该工具具有多种多样的特性，能够承受先进集成的化学和物理特性，适用于现代制造工艺。