二手 CND PLUS CIE-3D02(04)-C #9223038 待售

CND PLUS CIE-3D02 （04）-C是一种高性能光刻设备,专为高技术行业的精密深度蚀刻应用而设计。该系统用于各种制造过程,在这些过程中,准确和可重复的结果至关重要。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C利用暴露技术和基板的独特组合,提供卓越的蚀刻性能和精确度。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C单元是一种深度蚀刻机，结合了多个元素，为集成电路、晶圆、半导体和其他微制造设备创建精确的底层结构。该工具包括高精度激光曝光头、自动索引晶片传输资产、高性能CASS步进控制以及先进的抗蚀材料和曝光技术。所有组件集成在一起，为一系列高科技产业提供了完整的深度蚀刻解决方桉。此模型减少了对多种光阻剂的需求,这些光阻剂成本高昂、耗时,而且对于复杂的深度蚀刻应用程序通常不切实际。设备的另一个好处是可携带性。它旨在安装在移动、模块化的微型制造环境中,使其易于在各种地点使用。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C支持各种抗蚀剂材料的激光曝光，包括光致抗蚀剂和负性抗蚀剂。该系统旨在提供精确和可重复的曝光结果,分辨率为0.1 μ m。此精度对于微机械加工、集成电路制造和其他高科技应用至关重要。基于激光的曝光头被设计用来调整曝光时间，以​​得最佳的结果。此外，步进控制设计用于提高分辨率和更高的可重复性，以实现复杂和精细的深度蚀刻所需的自动曝光周期。CND PLUS CIE-3D02 （04）-C设计为高效、可靠和精确,可在单个过程中实现多个深度蚀刻应用程序。该装置控制严密，非常适合用于多种行业，包括微电子、光电、集成电路制造和晶圆制造。对于这些应用程序,CND PLUS CIE-3D02 （04）-C机器提供了最高的精度和性能。