二手 CND PLUS CIE-4D02(04)-C #9267215 待售

CND PLUS CIE-4D02 （04）-C是由光化学材料和解决方桉的领先供应商CND （Coating and Developing Inc.）开发的最先进的光阻设备,用于半导体和其他集成电路的工业生产。CND PLUS光阻系统是专门设计用于直接写入光刻工艺的，用于高精度创建集成电路和其他微电子元件。该装置采用了一种专有的硬烤光刻光刻耐光涂层，以及CND先进的四层沉积技术（4D02）来创建具有极高分辨率和特征均匀性的特征。CND 4D02涂层由四个不同的薄膜层组成，这些薄膜层经过专门设计，可与传统的光刻工艺相互作用。这四层被设计成与投影机中的光刻光学元件相互作用和调制，以给出设计者在成品中所需的精确特征。4D02涂层中的第一层是紫外线阻滞层。该层有助于在平版印刷过程中创建小物体细节所需的均匀性，也可以排除抗蚀剂的过度暴露和底层硅片的污染。第二层是硬烤UV吸收层，有助于降低焦点深度和可接受打印所需的临界尺寸（CD）。这一化学层提供了更高的精度和精确度，有助于提高产量。第三层和第四层分别是光致抗蚀层和紫外线增强蚀刻止动层。这些层相互作用，保护下面的硅片免受潜在的过度暴露和化学攻击。与传统的光刻工艺相比,它们共同帮助确保高质量的印刷品具有更清晰的特征边界和更高的分辨率。CND PLUS CIE-4D02 （04）-C光致抗蚀剂工具非常适合用于制造先进半导体和微电子器件的高密度、超细细节和复杂介电层。其硬烤紫外线吸收层有助于提高分辨率，降低实现可接受印刷所需的CD，而其四层涂层则提高了平版印刷的均匀性和景深性能。降低的CD规格允许更高的产量和更复杂的模式,而保护层有助于确保改进的可重复性和更长的模具寿命。