二手 CND PLUS DAVID 2015 #9359656 待售

CND PLUS DAVID 2015是在IC製造过程中使用的先进光刻胶设备。光致抗蚀剂是一种光敏材料，通常是树脂或聚合物，用于在基板或半导体芯片上创建印记。此类系统用于有选择地添加、移除和修改基板上电气元件的形状。DAVID 2015是一个由多个组件组成的自动化单元，包括开发者、曝光数据准备、光学视点机和过程控制工具。显影站使用喷雾或浸涂工艺将光刻胶涂覆到基板上。一旦应用了光致抗蚀剂，曝光数据准备站将优化光掩模图样，以便在过程中使用。光学视点资产允许光掩模与基板精确对齐。最后，工艺控制模型对整个光刻胶工艺进行监控，以确保底物得到正确处理，并进行任何必要的调整。CND PLUS DAVID 2015能够使用多种类型的基板，包括多种半导体晶圆、薄膜基板和电路板。它还可以同时用于光刻胶的正面和背面曝光，从而能够准确地创建电路特征和精细细节。通过高度自动化和简化的IC制造过程,该设备能够高速、高精度地生成复杂的阵列。这种光致抗蚀剂系统是快速制造集成电路的一种实用方法，具有一定的复杂性。其各种部件，如开发者站、曝光数据准备站、光学视点单元、过程控制机等都协同工作，创造出可靠性、精确度和高产率的光敏电路。DAVID 2015还提供了一种高效、经济高效的光掩模图样制作方法。