二手 COMET CDH-5010 #9223055 待售

COMET CDH-5010是一种光刻设备,专为高效的湿式开发和带状应用而设计.该系统包括两个主要组件：光刻胶和显影剂.光刻胶是光敏材料，在光刻过程中施加到基板上。通过将光致抗蚀剂暴露在紫外线下，可以激活基板的特定区域，然后将其发展成所需的图样。显影剂然后从基材中去除不需要的光致抗蚀剂材料，留下所需的图样。CDH-5010光敏装置特别适合于玻璃芯片（COG）基板。其先进的涂层技术提供了对基板上光刻胶厚度和均匀性的精确控制。此控制可确保高保真模式,并具有广泛基板的详细功能。除了精度外,COMET CDH-5010光刻机还具有出色的湿法开发和带状性能.显影剂采用了强大的低泡沫表面活性剂配方，有助于确保均匀的涂层厚度，同时保护敏感的底层不受降解。此外，有效的带状循环最大程度地减少了对周围基板的损害或显影剂化学品的过量消耗。该工具包括一个可靠且易于使用的开发人员填充过程,可帮助确保持续的生产和成本节约。CDH-5010可实现的高可重复性和重复性使其成为湿式开发光刻胶应用的真正有价值的工具。总体而言，COMET CDH-5010光致抗蚀剂资产是精确、高分辨率、边缘干净、保真度高的图样的理想选择，是玻璃芯片基板的理想选择。其出色的性能，在湿法开发和剥离的应用，确保快速循环和最小的损坏基板。该模型还采用了经济高效生产的加注工艺和实现利润最大化的机会。