二手 CONVAC 6000 #26871 待售
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CONVAC 6000是为微电子制造业光刻设计的高性能工业光刻设备。该系统由一个照明子系统、一个掩模子系统以及一个抗蚀涂层和显影头组成。照明子系统使用两个F2准分子激光源,分别提供高达550mJ/ cm2的能量、高达400kHZ的频率和高达3 um的光斑大小,用于正面照明。照明子系统还包括可变间隙激光电池、激光电源和快门。面罩子系统具有自动真空面罩更换器和自动石英面罩曝光器。在明暗场图样中,曝光器可实现多种照明角度和曝光时间。抗蚀性涂层头的设计可在晶片上提供卓越的均匀性。它能够用厚薄的薄膜和薄膜涂覆多达300 mm的零件，精度和精确度相等。抗蚀性涂层采用螺线管驱动的自动阀，为涂层过程的每个步骤提供精确的流量、压力和温度。6000的开发头具有基于四极子的雾化喷雾器，有利于晶圆各部分的均匀开发时间。雾化器在抗蚀剂表面喷涂溶剂基蚀刻介质，并允许先进的抗蚀剂去除技术，如立体定向蚀刻。总体而言,CONVAC 6000单元是一台可靠、紧凑的光刻机,非常适合高精度生产,可实现最大吞吐量。其自动化的掩模处理、可变的照明角度和精确的抗沉积性能使其成为微电子设计中持续高生产力的理想选择。
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