二手 CONVAC CBA-1-1M-2000 #293747947 待售

CONVAC CBA-1-1M-2000光刻设备是一种高精度的曝光和沉积系统，设计用于对较小的精密样品和组件进行制图。该单元结合了光刻和真空沉积的特点，以便为用户提供有效的结果。CBA-1-1M-2000有一个14层蒸发器和6英寸遮罩对准平台，用于电介质和金属的沉积。蒸发器允许多达16个同时沉积区进行多层沉积。这种特性允许在较大的区域上对较小和较复杂的成分进行阵列化，并沉积均匀的厚膜。带照明的遮罩对齐器可确保遮罩与基板的精确对齐,从而能够以精细的细节和高精度对特征进行沉积和图桉化。这些应用可以使用广泛的材料，机器可以针对不同的曝光参数进行调整，以达到理想的效果。CONVAC CBA-1-1M-2000还采用了一系列适合更复杂样品和部件的沉积技术。这些技术的整合，包括自旋涂层、喷涂涂层和槽涂层，可以精确沉积厚度均匀的保形膜。这样就可以沉积金属和介电层，以便对各种元件进行可靠的保护。CBA-1-1M-2000旨在最大限度地提高吞吐量并最大程度地减少工具停机时间,它具有用于收集流程数据的自动化资产,以及用于样品处置的全面跟踪模型。设备还配备了备份存储,允许在系统故障或停机时备份流程和数据。这一单元的设计效率高，成本效益高，使其成为广泛研究和工业应用的宝贵工具。