二手 CONVAC CBA-3–3 M-2000 #9016683 待售

CONVAC CBA-3-3 M-2000是一种光刻设备，用于在半导体和微电子元件上实现精确的光刻图样。它用于方便各种图样化应用，如采样、掩蔽、蚀刻和印迹。光致抗蚀剂系统的主要部件是保形泵，它被设计用来使用液体或气体溷合物在工件表面产生高对比度的图像。泵本身能够施用各种厚度的光致抗蚀剂，厚度从20到500 nm不等，无论底物形状如何。泵还能够实现从5 μ米到1mm宽的均匀覆盖，适合各种光刻应用。用户可以修改保形泵的设置参数，以产生不同的光敏图样。这是通过调整曝光时间和厚度，以及抗蚀剂的类型来实现的。光致抗蚀剂施用后，对光掩模进行照明，开发出光致抗蚀剂的暴露区域。这导致这些区域中的光致抗蚀剂被去除，露出下面的底物。剩下的光致抗蚀剂可以被移除，换成新创建的材料。此外，CONVAC CBA-3-3 M-2000光阻装置配备了许多安全功能，如自动关闭和自动报警，以便在操作范围以外更改参数时向用户发出警报。它还能够进行某些实时监控,允许用户根据需要查看和调整处理参数。这有助于确保应用程序之间的最佳可重复性和一致性。总而言之，CONVAC CBA-3-3 M-2000光刻机为用户提供了实现复杂光刻模式的可靠、准确的手段。它提供了对光刻胶应用的精确控制，允许用户根据自己的确切需求定制图桉。最后，增强的安全功能确保用户随时了解其操作参数，并可根据需要进行调整。