二手 CONVAC CBA-M-2000-U #9152187 待售
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CONVAC CBA-M-2000-U是为各种基板加工而设计的多功能光刻设备。它能够在包括玻璃和聚酰亚胺在内的各种晶圆基板上进行光刻、化学蚀刻和溅射处理。该系统是一种光学光刻工具，利用投影曝光光学器件，利用含有图样的遮罩或光掩模将辐射投射到基板上，以便对晶圆的特定区域进行光刻蚀刻。该单元利用线性聚焦投影透镜将光子聚焦到基板上，在指定区域上创建图样。镜头的可调数值光圈（NA）为0.43，设计用于对尺寸范围广泛的基板进行成像，从5.7mm到500 mm。镜头可以调整以适应不同的曝光波长，包括可见光和紫外线光源。镜头也可以配置为同时使用4英寸或6英寸晶片。对于晶片的图桉化,机器的软件使用户能够设计光掩模,指定光刻和蚀刻过程的目标区域,以及设置曝光能量和剂量。该工具具有高端精密对准资产，对准精度为0.5微米，适合高公差应用。晶片的倾斜和旋转也可以手动微调，以确保光学器件的最佳性能。模型的曝光阶段提供了一致的准确性和可重复性，并允许晶圆相对于其原始参考点的精确定位。该设备提供内置的化学蚀刻能力，允许各种溅射和光刻技术。系统包含高达10 kW的选择性溅射功率，溅射时间可调整至基板尺寸和所需结果。此外,该单元允许使用保护膜（如抗蚀材料）对基板进行层压。总体而言，CBA-M-2000-U是一种高度先进的光刻机，可广泛应用。其耐用和坚固的特性,加上简单的设置,使其成为想要利用高精度光刻技术的用户的理想选择。
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