二手 CONVAC CEA-M-2000 #293747949 待售

CONVAC CEA-M-2000光刻胶设备是一种设计用于制造和加工光刻胶的高性能、多功能、多层光化学生产系统。光致抗蚀剂用于制造半导体和光电器件及集成电路，CEA-M-2000专门设计用于深紫外和极紫外后端应用的一步光刻和蚀刻工艺。它具有紧凑的模块化结构，具有水平输送机构和大容量基板处理能力。CONVAC CEA-M-2000能够用多晶硅、二氧化硅和多晶金刚石等不同材料生产和加工光阻。它的模块化设计提供了广泛的曝光选项,包括投影、接触或接近打印以及数字曝光。该单元还提供了增强的均匀性和分辨率，由于其丰富的特征光刻胶开发，后处理，和控制系统。此外，该机还能够采用独特的直流伺服扫描平台进行掩模与晶片对准。此外,该工具还提供了多种功能,可用于降低成本和优化流程。它为蚀刻提供了智能平面化资产，使用户能够优化蚀刻参数，以实现所需的蚀刻轮廓。此外，它还采用了最先进的干蚀刻技术，使用户能够降低成本，减少蚀刻时间。该模型还提供了晶圆均匀扫描设备，可以测量每个晶圆上的精确蚀刻量和暴露面积。CEA-M-2000光敏系统是为满足现代半导体和光电工业的要求而设计的。凭借其高性能元件和自动光刻胶处理，它为设备制造带来了用户前所未有的光刻和蚀刻能力。这个单元帮助用户降低光刻胶生产成本和时间，提高产量和提高吞吐量。这台机器非常可靠，非常坚固，能够承受恶劣的工作条件和高温。