二手 CONVAC LBA 7 #9177469 待售

CONVAC LBA 7是专为先进半导体器件制造工艺而设计的光阻设备。它具有多种复杂的特性，包括防腐涂层、纺丝、烘烤和开发集成电路制造过程中使用的光刻胶层。该系统还具有先进的三轴扫描级，用于光刻。LBA 7提供的抗蚀涂层具有独特的固体分数调节特性，提供高度均匀的薄膜厚度。旋转过程的转速在100至3500 RPM之间,可提供可选的加速和减速速率、空气动力学自旋速率稳定以及用于精确控制的平均离心力传感器。人性化烘烤装置的可调温度范围为50至400°C，基板上的温度均匀度± 0.5°C。为进行开发，该装置的可调显影剂温度范围为10至40°C，以便在处理各种光致抗蚀剂时获得最佳效果。对于扫描阶段，CONVAC LBA 7提供了0.5 µm的出色重复性，以及高度精确的加速度和速度控制。这允许在基板上高度精确和精确地放置图样。还包括一台超精确的XYZ手动对准机,其定位精度为0.1 µm ±。该工具还具有可编程曝光功能，可与任何自动光刻设备集成。LBA 7旨在成为高效、用户友好和经济高效的资产,用于制造集成电路制造过程所需的各种光刻胶层。它具有顶端的抗涂层、纺纱、烘烤和发展性能,可以精确自动化以获得最佳输出。用户友好的设计和先进的扫描阶段使其成为精确光刻的理想选择。