二手 COST EFFECTIVE EQUIPMENT / CEE 200 #293590405 待售

成本效益设备/CEE 200光刻设备是电子工业中使用的计算机控制蚀刻系统。它的工作原理是将反应性金属化层施加到基板上，然后引导激光束对其进行制图。然后对激光束进行检测和分析，以确定蚀刻模式，然后将其用于进一步处理。CEE 200是一个高度精确和高效的单元,它提供各种蚀刻过程,从大规模的光掩模生产到半导体器件的原型设计。机器使用专用的光阻应用工具和受控环境,以确保准确构建所需的模式。它使用计算机控制的激光器在基板上绘制图样，然后允许精密蚀刻。具有成本效益的设备200资产具有广泛的处理参数,非常可靠,适合各种应用。200可以容纳多种基材，并以一系列紫外线激光光源将基材暴露。它还包括一个等离子体涂抹器，用于在基板上施加光致抗蚀剂层。等离子体被固定在受控环境中，而激光则被用来在基板上绘制图样，从而确保任何所需图样的精确创建。具有成本效益的设备/CEE 200是一个高效率的模型,分辨率高达5 μ m/像素。这提供了精确的蚀刻结果。它还提供了一些功能,通过提供预防性维护功能、提醒用户注意潜在问题以及包括在线监控设备,帮助改进流程。设计了CEE 200光致抗蚀剂系统,考虑了安全性.它包括一系列保障措施，以确保伤害风险降至最低。它有一个保护激光和使用者的金属外壳，以及一个装有任何危险气体的烟罩。它还包括用于控制激光和光刻过程所用功率量的软件，使用户可以调整激光功率，以确保危害的风险最小。具有成本效益的设备200单元是各种应用程序的绝佳蚀刻工具,它提供了创建精确模式的高效、安全的方法。它以经济实惠的价格提供出色的功能,使其成为任何蚀刻或原型设计项目的绝佳选择。