二手 CRESSINGTON 108 Carbon/A #293656286 待售

CRESSINGTON 108 Carbon/A光刻设备是一种业界领先的光刻技术，用于制造半导体器件。该系统采用碳基有机气相沉积（CVD）方法，可以精确控制碳基光致抗蚀剂材料在晶片基板上的沉积。这在沉积的光致抗蚀剂的特性和质量上提供了高度的均匀性。该单元由一个自动沉积室、一个用于精确应用光刻胶材料的光刻胶分配室和一个用于沉积后固化的光刻胶显影室组成。该机器能够沉积厚度从0.5 µm到200 µm不等的光刻胶，均匀度± 0.5微米，加工速率为每小时11-30晶圆。该工具可与SU-8、AZ、ORM、HMDS等标准光刻胶化学品配合使用，并可针对金属或介电涂层、多层蚀刻掩蔽、背面光刻等特定光刻胶应用进行优化。沉积室中的温度范围在25-185 °C之间，在较低的工艺温度下可实现真空稳定至0.1 Torr的临界蚀刻工艺。该资产提供了多种功能来增强光刻胶应用程序流程的性能,包括用于精确控制的自动分配流校准模型,以及用于记录所有流程参数的内置数据记录器。此外，该设备还包括一个内部诊断系统，用于检测光刻沉积过程中的故障操作。CRESSINGTON 108 Carbon/A光致抗蚀剂单元用途广泛、可靠，能够为广泛的临界半导体应用生产高精度、高均匀度的光致抗蚀剂层。凭借其内置的自动化、先进的诊断和监控能力以及对工艺参数的控制，该机是业界领先的光刻工艺的理想选择。