二手 CUSTOM Custom #9097575 待售

光致抗蚀剂系统是一种基材加工技术，利用光敏材料在光致抗蚀剂基材上产生图样。CUSTOM Custom光刻胶系统在电子工业中被用于多种任务，包括开发精细的图样几何形状、对齐和传递各种介质上的图样、蚀刻元件到基板上。光致抗蚀剂系统的工作原理是将感光层暴露在光的图样上。这层光敏材料在暴露于适当的光波长时会变暗。通过控制光照，在光刻胶层上产生了不易用更标准的技术完成的精细图桉。定制的光致抗蚀剂工艺始于原始光致抗蚀剂材料的制备。这通常涉及创建所需电路模式的相对较大的正向或负向图像。然后,可以通过多种方式将CUSTOM Custom模式转移到光刻胶基板上。可以使用印刷胶片,也可以应用直接写入过程。一旦图样在基板上，光致抗蚀剂就会暴露在特定波长的光下。光刻胶的作用就像照相胶片，使任何受光线照射的区域变暗。这个变暗的过程被称为光印。曝光后，光致抗蚀剂材料可以进一步加工。光刻胶的开发可以使用专有的开发溶液或溶剂来完成。这导致光刻石层的蚀刻就在它暴露于光的地方，从而在基板上形成图样。一旦开发出所需的图样，就可以通过蚀刻、化学去除或其他工艺进一步操纵基材。也有可能利用光刻胶系统生产元件，如集成电路或其他类型的元件。蚀刻后，光刻层可被剥离并再利用。Custom光刻胶系统允许生成极其精细和复杂的图样,而其他类型的过程不易实现。在基材上开发错综复杂的图样是一种相对廉价的方式，是现代电子制造过程中的关键部分。它在元件制造中的使用使其成为电子工业的宝贵工具。