二手 Dantakuma DT-1600 #9290797 待售

Dantakuma DT-1600是一种光致抗蚀剂设备，主要用于精确制图，特别是用于生产半导体和光掩模。它是一个模块化的系统，由不同的组件如曝光单元、抗蚀剂涂层机和显影工具组成。曝光资产使用汞蒸气弧灯将光刻层暴露于光中。该模型以1到10 Hz的频率和0.2到0.3 MW/cm2的光强度比曝光光刻胶。曝光设备有一个可调聚焦透镜和一个模式生成软件来定义模式的确切形状。抗蚀剂涂层系统用于在半导体晶片上施加光致抗蚀剂层。该单元可应用多种光刻胶薄膜，如干膜光刻胶、光刻胶、SU-8或光刻胶。它包括两个部分：一个抗蚀剂溶解罐和一个自旋涂层.溶解罐中含有一溶液的光致抗蚀剂，然后转移到自旋涂层。自旋涂层使晶片旋转，从而使光致抗蚀剂在其表面均匀分布。开发机用于去除裸露的光刻胶层。该工具使用蚀刻化学物质和显影剂溶液的溷合物，从晶圆中选择性溶解暴露的光致抗蚀剂层。显影剂溶液可能含有溶剂、表面活性剂、碱、螯合剂和盐缓冲剂。DT-1600是一种强大的光刻资产，可以在各种基板上进行精确的图样绘制。它可以用来创建半导体晶圆、光掩模和其他技术所必需的复杂模式。它的模块化性质为用户提供了选择最适合其需求和预算的组件的灵活性。