二手 DELTA 7EK #9395519 待售

DELTA 7EK是一种光刻系统，设计用于光刻工业。光致抗蚀剂是紫外线或X射线敏感的照相材料，用于在半导体晶片上创建有图样的微结构。7EK由两种成分组成：感光层（如感光丙烯酸、环氧或聚酰亚胺）和显影剂/底物蚀刻剂。感光层被沉积在基板上，然后暴露于能量来源，如紫外线或X射线。能量源在感光层中引起化学反应，使其在显影剂/底物蚀刻剂中更易溶解。此蚀刻剂可用于在基板表面上形成特征。这些特征通常是通过光掩模进行图样化的，但也可以直接通过将基板暴露在能源中来开发。为了最大限度地提高其效率,DELTA 7EK光刻系统包括几个特征：1.一种多层堆栈体系结构,允许在基板上获得更精细的特征大小,从而实现更高效的阵列设计。2.一种在基板上的抗反射涂层，以最大化光刻胶层中的紫外线或X射线能量吸收。3.一种优化的显影剂/基板蚀刻成分，以更好地抵抗模式的发展。4.一种"软烘烤"工艺，有助于确保均匀的光刻胶层厚度和增强的性能。5.一种"抗腐蚀"处理，以尽量减少残留的光致抗蚀剂在基板表面的有害沉积。7EK被设计为提供优越的图样效果，具有出色的分辨率，出色的表面平面性和优越的边缘清晰度。此外,它是一个非常可靠、经济高效的解决方桉,用于制造复杂的阵列结构。总之，DELTA 7EK光刻系统是一种可靠、经济高效的光刻解决方桉，具有优异的图样效果，具有优异的分辨率、优异的表面平面度和优越的边缘清晰度。它通过其多层堆栈和防反射涂层、优化的显影剂/基板蚀刻成分以及"软烘烤"和"防腐"工艺，实现了更精细的特征尺寸和更高的性能。