二手 DMC SA/3m #143322 待售
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ID: 143322
晶圆大小: 8"
优质的: 2006
Wafer-level Electro Plating system, 8"
Used for Stamper and micro pattern electro-plating
Can be implement as high uniformity
Using cathode head rotating system can produce high-quality products
This equipment can be applied to MEMS type and performed on the trench fill electroplating
Process automation can be set with Independent program for each cell
Various plating condition can be set with Independent program for each cell
DC, pulse, pulse- reverse current can be supplied in the resolution ±1 mA
Ni, Ni-CO, Cu Electroplating can be performed with this equipment
Total solution volume: 500 liters
Features:
Small Footprint
Independent Pump/Filtration for each cell
Patented adjustable cathode head and workholder for precise control of thickness variation
Front access for maintenance
Integrated all-in-one design, integrated sump & electronics
Enclosed work area for process control
Industrial PC control with large flat panel touch-screen display
Switch mode rectifiers
Easy operator interface
All digital Control system
(Qty 3) Cells:
Pump: 1 HP
Heater: 6 kW
Rectifier: Standard 65 Amps, 24VDC
Filtration: 2 Stage
Pre-filter: 5 micron DOE, 20"
Final-filter: 0.45 micron DOE, 20"
Flow: 50 liter max (Adjustable)
2006 vintage.
DMC SA/3m是一种最先进的光阻设备,专为精确曝光而设计。该系统是专门为满足先进微电路制造工艺的要求而设计的。其特点包括高精度的图像掩模对准、精确的手动定位、强大的X射线源以及高分辨率的成像能力。DMC SA/3m通过使用其三轴电动光纤掩模对准单元来产生坚固、一致的图像。这台机器使它能够精确对齐成像位置，并准确定位对准导轨框架到掩码。它的高功率光源还能够提供多角度的高强度光，确保单个表面的照明一致。DMC SA/3m的定位非常精确。它能够准确地放置和测量每次曝光时掩模的确切位置，无论掩模的大小如何。它的X射线源可以调整以提供多通道曝光以创建更复杂的图像。它的超高分辨率成像工具还能够捕获到5.2纳米分辨率以下的信息。DMC SA/3m除了具有图像再现能力外，还能够进行涂层和开发工艺集成。其整体涂层资产旨在确保整个基板的图像分辨率一致。它的开发过程集成使得能够在大面积上进行高灵敏度成像。该模型还可以与蚀刻、沉积和光刻等其他基材技术结合使用。总体而言,DMC SA/3m是一种用于要求苛刻的微电路制造应用的先进光刻设备。它提供精确的图像定位、多轴电动掩模对准以及强大的X射线源。其成像能力高分辨率，该系统可与其他基板技术结合使用。因此,DMC SA/3m对于那些在成像和制造过程中需要精确和精确的用户来说是一个理想的解决方桉。
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