二手 DNS / DAINIPPON 200W #293797341 待售
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ID: 293797341
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
Coater / Developer system, 8"
Spin Coater (SC):
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
Resist nozzle scan speed: 25-85 mm/s
Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min
Edge cleaner nozzle
Back rinse dispense flow: 50 mL/min
Cup material: PP, PPS
SUS304 Exhaust material
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
Spin Coater (SC) / T-ARC:
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
T-ARC Nozzle scan speed: 25-85 mm/s
Pot rinse dispense flow: Maximum 30 mL/min
Edge cleaner nozzle
Back rinse dispense flow: 50 mL/min
Cup material: PP, PPS
SUS304 Exhaust material
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
Spin developer:
Rotation speed: 0-6000 RPM (CW,CCW)
PEEK Spin chuck
Nozzle scan speed: 25-100 mm/s
Nozzle cleaning dispense flow: Maximum 1 L/min
Pure water rinse dipense flow: Maximum 2 L/min
Back rinse dispense output: 4 Line
Cup material: PP,
SUS304 Exhaust material
Drain: Liquid-vapor separation
Resist dummy dispense: Auto / Pre-dispense
UV Wafer Edge Exposure unit (EE):
Vacuum sensor
Image sensor detector
Source: 200 W, HG - Xe lamp
Illumination limit control: Feedback auto-control
Indexer:
Built-in SMIF
ASYST INX 2200 Indexer
Wafer detector
Cassette defector
POD Detector
1999 vintage.
DNS/DAINIPPON 200W是DNS Screen Manufacturing Co.它是一种光刻系统，能够产生高分辨率和复杂的图样。该单元包括精确切割和模版功能的独特组合,并提供卓越的设备精度和易用性。DNS 200W光刻机基于两个基本系统.第一种工具是光致抗蚀剂资产，它能够在基板上产生小的高分辨率图桉。该模型采用反应性离子蚀刻（RIE）和光刻工艺的组合，将光刻胶薄膜沉积在基材上。光致抗蚀剂的薄膜被选择性地暴露在紫外线下，进而触发光化学反应。这导致在基板上沉积一个光刻胶图样，然后可以选择性地转移到所需的形式。第二个设备是DAINIPPON 200W激光烧蚀系统，它可以在基板表面产生精确的切割和图桉。该单元的工作原理是将激光束引导到基板上所需的区域。当激光束接触基板时，会引起材料的汽化和蒸发，从而产生精确的切割或图样。此过程非常精确且可重复,可用于生成复杂的特征阵列。这两种系统在200W机器中结合在一起，产生微型化的底物。光致抗蚀剂工具用于制备基板上的光致抗蚀剂薄膜，然后将其暴露在激光束下，产生符合要求的图样。通过对光敏胶片和激光束的精确控制，实现了一种高精度、可重复的图样。这些过程的结合导致了高精度和易于使用的微型图案设备组件的生产。DNS/DAINIPPON 200W光刻胶资产广泛用于薄膜晶体管阵列、集成电路、太阳能电池和传感器等应用。该型号具有出色的设备精度和可重复性,非常适合各种应用。此外，设备也操作方便，性价比高，对很多企业来说都是有吸引力的选择。
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