二手 DNS / DAINIPPON 629 #9276178 待售
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已售出
ID: 9276178
晶圆大小: 6"
Coater system, 6"
Loader / Unloader, 6"
Step motor driving system
Individual unit control
I/H Unit, 6"
Wafer handling arm material: SUS304
Wafer loading method: Handling arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving system
Bake, 6"
Type: HP + CP
H.M.D.S Included
Wafer loading method: Wire moving with cylinder
Developer spin unit, 6"
Develop type: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
Nozzle type: Spray nozzle
Exhaust control system
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving: Step motor
Coater spin unit, 6"
Coating method: Rotation with spin motor
Maximum RPM: 6,000
P/R Discharge method: BELLOWS Pump
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
(2) Nozzles
Type: 1/8" / Track
Exhaust control system: Manometer
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6,000 RPM
Maximum P.R Dispense: 20 cc / 1 Strock
Waste liquid drain: Manual drain
Wafer moving: Step motor
Bake, 6"
Type: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT 2-Stage
Maximum temperature: 250°C
Wafer moving: Cylinder
Utilities:
Power supply:
AC, 110 V, 30 A, 1 Phase
AC, 220 V, 30 A, 1 Phase
Air pressure: 4 ~ 5 Kg/Cm²
N2 Pressure: 3 ~ 4Kg/Cm
Vacuum pressure: 60~70 CmHg
Spin exhaust: 100 mm (20 mmHg)
Bake exhaust: 70 mm (20 mmHg).
DNS/DAINIPPON 629是由日本DNS Screen Manufacturing Co., Ltd.设计的光刻胶设备。该系统用于制造半导体器件和其他复杂结构。利用光敏材料的性能在制造过程中产生亚微米图样。该单元由多个组件组成,包括光源、透镜单元、真空室、步进电机、输入/输出板、控制面板和激光光电池。机器中使用的光源是一种高强度激光,用于高精度测量和记录光敏基板的特性。其特点是分辨率高,功耗低,测量参数的动态范围广。光源连接到由高精度光学元件组成的透镜单元,将激光聚焦在基板上的特定点。激光光电池是一种用于检测曝光区域和测量曝光时间的精密传感器,这保证了光刻胶基板对激光的均匀曝光。光致抗蚀剂基板放置在真空室中,以便在暴露于激光之前进行精确的平整和定位。由输入/输出板控制的步进电动机附着在真空室上,以在x-y轴上精确移动基板。然后使用控制面板输入控制参数,例如曝光级别、曝光时间和曝光区域,以获得所需的结果。一旦光致抗蚀剂基板暴露,成像过程就开始了。然后使用化学或物理蚀刻工艺去除光刻胶材料的裸露部分以创建所需的图样。然后使用各种成像工具,例如扫描电子显微镜、原子分辨率显微镜和扫描隧道显微镜,检查和验证图样的质量。DNS 629工具中的成像工艺有助于生产对制造半导体器件和复杂结构至关重要的极其精细的特征。
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