二手 DNS / DAINIPPON 629 #9276179 待售
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ID: 9276179
晶圆大小: 6"
Developer system, 6"
Loader / Unloader, 6"
Step motor driving system
Individual unit control
I/H Unit, 6"
Wafer handling arm material: SUS304
Wafer moving method: Arm with vacuum
Digital wafer sensor
Step motor driving system
Developer spin unit, 6"
Develop type: Rotation spray with spin motor
Chemical liquid discharge method: N2 Pressurization
Wafer chuck size, 70 mm
Spin cup
Polypropylene resin:
Upper: 8"
Lower
Nozzle type: Spray nozzle
Exhaust control system: Manometer
Spin cover: Transparent acrylic
Maximum spin motor: 6000 RPM
Waste liquid drain: Natural drain
Wafer moving: Step motor
Utilities:
Power supply:
AC, 110 V, 30 A, 1 Phase
AC, 220 V, 30 A, 1 Phase
Air pressure: 4 ~ 5 Kg/Cm²
N2 Pressure: 3 ~ 4Kg/Cm
Vacuum pressure: 60~70 CmHg
Spin exhaust: 100 mm (20 mmHg).
DNS/DAINIPPON 629光刻设备是一种独特的光刻系统，设计用于制造和基于电子的基板加工。该设备能够产生高分辨率的特性，具有出色的工艺精度和可重复性。该机广泛应用于许多行业，包括制造各种电子元件。DNS 629光刻工具由几个组件组成。它有一个反射型遮罩对准器，配有两个光学通道，允许在广域内曝光。资产还包括自动蒙版处理模型，能够在曝光前自动交换蒙版和调整蒙版位置。系统内还集成了能源管理设备，允许用户精确管理曝光时间。这种光致抗蚀剂装置旨在支持正向和负向光致抗蚀剂，为用户提供取得预期成果的能力。该机器包括分辨率高达0.25 µm和步进器，使用户能够以可控且均匀的曝光光强度曝光多达4 x 4英寸的基板。步进器还提供可调节的焦点控制，使用户能够将基板聚焦在工具中。DAINIPPON 629资产包括一个开发者/剥离器单元，使开发者能够将光刻胶图桉发展成所需的特征，并在需要时蚀刻基板。其他几个单元，如光电二极管单元和光束对准，也被整合到模型中，使得设备高度自动化和高效。此外，该系统设计方便用户，具有直观的编程界面，有助于方便设备编程，并为用户提供机器参数的数字监控。它还有一个先进的热控制工具，为精确的应用提供先进的温度控制。总体而言,629资产提供了高性能、准确性和可重复性,以及广泛的功能。适用于多种基于光刻胶的应用，使其成为有兴趣提高产品质量和最大限度降低生产成本的用户的理想选择。
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