二手 DNS / DAINIPPON 80B #9400647 待售

製造商
DNS / DAINIPPON
模型
80B
ID: 9400647
(2) Coater / (2) Developer system Type: Open cassette, 8" THC Chemical cabinet ETU Coater: (6) PR Nozzles unit per spin (IWAKI Bellow pump) EBR RRC Nozzle Cup rinse Back rinse Developer: DEV1 / (2) Nozzles Pre-wet nozzle DI Rinse 1/2 Back rinse HP CP LPAH / AH.
DNS/DAINIPPON 80B是一种用于半导体器件制造的光刻设备,专为器件的高质量抗蚀性阵列设计。它是一个精密的系统,能够精确控制特定基板上的光刻胶层的暴露和发展。DNS 80B Photoresist Unit利用脉冲激光源、一套精确的掩蔽和开发技术以及基板加热应用来产生最佳效果。这台机器能够设计直径不超过6英寸的基板,其精确分辨率可低至10微米。该工具还提供独特的功能,支持光刻胶层在基板上的精确对准,以及光刻胶的受控曝光,而不会对基板造成伤害。要开始这一过程,必须先清洗和处理基材,然后再使用光刻胶。制备基材后,进行掩蔽阶段,以形成所需的图样。DAINIPPON 80B的激光源将精确的光能施加到选定的基板上,加热和固化光刻胶层,并在光刻胶内创建详细的图样水平。一旦激光源被触发和调整,光刻就开始了。暴露在光源下的基板区域会变硬,而用光掩模隐藏的区域会保持柔软。一旦光致抗蚀剂被开发出来,软硬的光致抗蚀剂区域就会被暴露出来,从而可以在底物的不同部分被蚀刻掉。资产中的加热应用程序充当开发后的过程。它可以提高蚀刻光刻胶的精确度,并保护基材。它还有助于在设备准备进入下一个制造步骤之前完全清除所有不需要的光刻胶区域。80B是半导体器件制造的一种强大而精确的工具。其激光光源、精确掩蔽和基板加热能力使其成为光刻图样制作过程中实现高精度的理想模型。它是先进电子器件发展的重要组成部分,是半导体器件制造的重要技术。
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