二手 DNS / DAINIPPON RF3S #9389840 待售

DNS/DAINIPPON RF3S是一种先进的光刻设备,旨在为大面积的制造应用提供卓越的薄膜厚度控制和阵列分辨率。这一系统是专门为满足半导体晶圆制造、LED显示器、器件封装等应用的复杂要求而设计的。DNS RF3S利用专有的高精度喷嘴单元,结合先进的表面处理,以高重复性和均匀性的方式在样品表面上均匀分布光致抗蚀剂。这允许纳米级均匀度为7nm或更小的极薄膜涂层。该机器还能够以非常精确的量供应光致抗蚀剂，浓度高达百万分之6。DAINIPPON RF3S利用一个专利的"广角喷嘴"来确保分布良好的光敏气流。这样可以在平坦的表面上形成均匀的涂层,并最大程度地减少不均匀的涂层或紧密间隔的图样之间的桥接。沉积的光致抗蚀剂的质量也通过独特的"非挥发性控制工具"来维持，该工具可以防止光致抗蚀剂薄膜的降解，同时也可以防止光致抗蚀剂的积累或浪费。RF3S还利用独特的薄膜厚度控制资产，自动调整沉积和流动速率，以实现厚度精确控制的均匀薄膜。该模型采用闭环反馈控制，保证了光刻沉积物的精确浓度和厚度，为降低地下基质中的寄生吸收提供了一种机制。鉴于先进包装和晶圆级工艺需要先进的光刻薄膜沉积系统，DNS/DAINIPPON RF3S为大面积制造应用提供了绝佳的解决方桉。它的高级功能对于实现所需的阵列分辨率和一致性至关重要。结合Nanotech的BRUCE系统等自动化后端处理设备,DNS RF3S设备能够提供一些最先进的光刻技术。