二手 DNS / DAINIPPON SC-W60A-AVQ #9235500 待售

DNS/DAINIPPON SC-W60A-AVQ是一种光刻设备，用于为各种半导体器件生产高精度掩模。该系统配备了两个使用干涉曝光技术在各种基板上实现均匀、高精度光刻图样的光刻胶曝光头。该单元的基本操作涉及使用光掩码，其中包含要转移到基板上的图样。光掩模放置在两个光刻胶曝光头上。每个头由四个弧光灯和四个共用阶段的冷凝器透镜组成。采用三维光学扫描仪，确保光掩模的均匀曝光。掩模以精确角度暴露在光线下,以确保传输图像的准确性。面罩放置在安装在高精度电动舞台上的"样品舞台"上,该舞台沿x、y和z方向移动,以使光面罩与基板对齐。安装了空气轴承的激光对准装置和自动对准机进一步保证了精确对准，从而能够准确地记录光掩模。该工具是为高精度和灵活性而设计的。这是通过其用户友好界面实现的，该界面允许用户快速设置和操作资产。例如，用户可以修改每个弧灯的光照强度和每个头部的曝光时间。曝光头可以自动化，允许用户调整每一波长光的曝光时间，以补偿光掩模的变化，从而准确地记录每一个图样。该型号还配备了图像处理软件，允许用户调整光掩模的对比度和亮度，以及去除光掩模或基板上可能存在的任何尘埃颗粒。这样可以确保高精度的模式传输。最后，DNS SC-W60A-AVQ包含一对精密的离子束溅射和气相沉积系统。这允许薄膜材料在基板上的图样上沉积。这些材料，与光刻胶图桉结合，形成高可靠性和高效率的半导体器件。总之，DAINIPPON SC-W60A-AVQ是为生产各种半导体器件的高精度掩模而设计的先进光刻设备。它配备了两个精密曝光头、激光对准装置和图像处理软件，为用户提供生产高质量口罩所需的灵活性和准确性。此外，其先进的溅射和气相沉积系统使用户能够在基板上的图样上精确地沉积薄膜，从而充分利用光刻胶系统。