二手 DNS / DAINIPPON SC-W60A #9115318 待售

DNS/DAINIPPON SC-W60A Photoresist Equipment是开发、曝光和蚀刻用于制造半导体的薄薄光刻层的完整解决方桉。DNS SC-W60A结合了高精度的曝光光束对准、可调节的重迭曝光面罩，加上高精度的晶圆定位和真空保持，提供卓越的光敏处理效果。系统架构以三轴高精度定位单元为基础，由底座、倾斜级和腕关节组成，提供每个晶片在掩模工作站内的精确放置。这台机器的设计确保了掩模层的精确重迭，并且可以调整以适应任何尺寸的晶片。此外,为了确保最大程度的均匀性,DAINIPPON SCW-60A利用阵列化曝光阵列,利用上层和下层扫描仪创建高质量的图像。另外，这个工具是专门为保证每个晶片表面完全没有颗粒而设计的。为了尽可能优化光致抗蚀剂层，DNS SCW-60A利用高压输送资产，利用机械快门在不同的水平吹压。此控制过程有助于确保光刻胶图样均匀地粘附在基板上。此外，还采用了自动聚焦模型，以使颗粒失活并监测整个过程，而耐腐蚀的不锈钢腔室有助于确保连续使用过程中的准确性。在蚀刻过程中，DNS/DAINIPPON SCW-60A使用射频发生器和化学源提供高性能的反应性离子蚀刻。射频发生器被设计成产生一个高频波，然后被送至晶片产生一个反应，其中腔室中的离子被吸引到晶片上，然后在光致抗蚀剂中产生图样。化学来源确保蚀刻过程快速、精确。为了确保准确性和高质量的结果，SCW-60A设计用于监测每个过程。该设备有多个传感器和设备，跟踪颗粒沉积、温度、压力、光刻胶层和蚀刻浓度，并在液晶显示器上自动显示结果。此外，基于算法的匹配系统确保每个晶片都精确地遵循预定的模式。总体而言，DAINIPPON SC-W60A光刻装置是半导体制造商的绝佳选择，他们在光刻和蚀刻过程中需要精确、一致的高质量结果。通过利用机器的高精度组件、精确的监控系统和自动化流程,用户可以放心,因为他们使用的是可靠且先进的光刻胶解决方桉。