二手 DNS / DAINIPPON SC-W60A #9142689 待售

DNS / DAINIPPON SC-W60A
製造商
DNS / DAINIPPON
模型
SC-W60A
ID: 9142689
晶圆大小: 6"
优质的: 1993
Coater / Developer, 6" Process: Photolitho 1993 vintage.
DNS/DAINIPPON SC-W60A是一种由光刻剂、显影剂和水去除剂组成的液体光刻设备。它用于半导体工业,主要用于制造集成电路(IC)中的各种组件的阵列。光刻胶系统利用氢氧化钾(KOH)蚀刻溶液蚀刻光刻胶材料的暴露区域。此蚀刻工艺在基板上形成所需的图样,然后进行湿洗和干燥基板。该单元有两个主要成分,光刻胶溶液和显影剂。光敏溶液是光敏化合物和与紫外线或电子束辐射反应的粘合剂的溷合物。它提供了出色的模式保真度、线宽控制和分辨率。显影剂用于在制图过程后耗散暴露的光致抗蚀剂。这种化学溶液通常由有机溶剂和硫酸、氢氟酸等有机酸组成。在设计光刻胶的过程中,底物浸没在光刻胶溶液中,通常为8-15秒。然后将基材暴露在紫外线、电子束或激光下一段时间,以固化光致抗蚀剂。光致抗蚀剂的暴露区域溶解在显影剂中,在基板表面留下所需的图桉。然后用清水冲洗基材,除去残留的光致抗蚀剂。基材随后干燥,准备下一个加工步骤。DNS SC-W60A光刻机为高性能和高精度设计.它提供了高分辨率的模式保真度和精湛的线宽控制和出色的湿式耐化学性。光刻工具可用于多种应用,如IC光刻胶、单层和多层图样、超细图样和高温回流焊接。光致抗蚀剂在各种工艺条件下具有显着的抗性,非常适合先进的封装和光电子技术。总体而言,DAINIPPON SCW-60A光刻胶模型提供了一种简单可靠的微电子器件阵列设计方法。该设备具有多种优点,包括对基材的出色附着力、卓越的分辨率和出色的线宽控制。该系统在IC制造商中仍然是一个受欢迎的选择,因为它在成功实施和高效运营方面的良好记录。
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