二手 DNS / DAINIPPON SD-80BW-AVP #9235495 待售

DNS/DAINIPPON SD-80BW-AVP是一种先进的光刻设备,专为各种光刻工艺和功能而设计。它是一个高度复杂的系统，使用了最先进的技术。它是为了满足高速半导体制造的需要而设计的，与传统的光刻胶系统相比具有许多优势。DNS SD-80BW-AVP配备了高精度编码器的3轴对准，以及一台臭氧发生器，以尽量减少光刻胶对光的不良反应。该单元还设计用于从单个晶圆、自动化模块直接集成到高端电子制造生产线。DAINIPPON SD-80BW-AVP非常适合掩蔽,因为它能够在晶片上提供定向和非定向均匀薄膜。其均匀的薄膜性能使机器能够提供精确的最小线宽，还可以微调单个遮罩尺寸和形状。SD-80BW-AVP特点提高了接触模式下5 mJ/cm2至10 mJ/cm2的灵敏度。这使得先前未曝光的区域如晶圆背面或压纹区域能够曝光。该工具具有非常快的模式曝光时间，并且能够处理分辨率高达10 um的晶片。其无针孔特性和铝抑制剂使其能够以最小的降解度和广泛的曝光纬度创建图像，从而为所生产的产品带来高产率。该资产还具有一层防反射层，可确保提高抗蚀层的成像效果，减少来自底层金属层的干扰，并提高产品的总产量。它还能够与各种类型的光刻胶配合使用，使其易于针对特定的工艺进行定制。DNS/DAINIPPON SD-80BW-AVP是一个可靠、健壮和可靠的模型,具有易于处理和使用的组件。其安全特性，如臭氧发生器，确保操作员的长期安全，并提供必要的防止有毒气体的保护。综上所述，DNS SD-80BW-AVP是为高速半导体制造而设计的高度精密的设备。它具有三轴对准系统和高精度编码器、臭氧发生器，能够在基板上提供定向和非定向均匀薄膜。其灵敏度提高、花纹曝光时间快、针孔无特征、铝抑制剂、抗反射层，以及与广泛光刻胶配合使用的能力，都是该单元的优点。其长期安全特性，如臭氧发生器，确保了对操作员的最大限度保护。这台机器是任何光刻工艺的可靠和可靠的选择.