二手 DNS / DAINIPPON SK-W80A #9144966 待售

DNS/DAINIPPON SK-W80A是一种用于制造半导体晶片的光刻设备。该系统使用一种抗蚀性涂层材料，这是暴露在强烈的光线蚀刻所需的特征成晶片。这项技术来自于一种先进的光刻工艺，它涉及紫外线，将感光材料（光抗蚀剂）曝光，以定义半导体上的电路模式。该过程从一层光刻胶开始，该层被旋转涂覆在半导体晶圆表面上。一旦自旋涂层，DNS SK-W80A然后用投影步进器发出的紫外线曝光光刻胶。在此过程中,根据所需的电路模式对光刻胶进行阵列处理。暴露在光线下的区域变得不溶解，而未暴露的区域则保持可溶性。接下来，在化学显影剂中开发出暴露的光致抗蚀剂。这种显影剂除去非暴露的光致抗蚀剂，同时将不溶性抗蚀剂作为覆盖所需电路图样的保护层。利用蚀刻剂和金属化等附加化学过程来完成电路模式。最后，除去光致抗蚀剂以暴露新创建的半导体图样。DAINIPPON SKW-80A具有许多先进的特性，使其适合制造纳米级的晶片。该装置提供高灵敏度的抗性涂层材料、高精度的曝光技术和机械化的分配机器。这确保了在涂覆和暴露半导体晶片时的精度精度。此外,它的内置对齐器允许将曝光时间降低0.1 mJ/cm2,同时提供高分辨率和卓越可重复性的优质曝光模式。这使得该工具非常适合制造具有纳米级设计特性的晶片。该资产还具有先进的温度控制，使其适用于低灵敏度Sn离子和0.75 um直径的纳米线等材料。它具有精密曝光技术等先进的工艺控制功能，模型可以在多种环境下操作，即使在极端温度下也是如此。DNS/DAINIPPON SKW-80A还有一个内置的用于涂层抗蚀剂的工艺室,可提供一系列附加附件,以促进连续生产过程。综上所述，DAINIPPON SK-W80A是一种能够制造具有纳米级特性的晶片的高精度光刻设备。其灵敏的耐涂层材料和先进的工艺控制特性使其适合各种生产工艺，即使在极端温度下也是如此。其内置的对齐和分配系统可确保高分辨率和重复性的高质量暴露模式。