二手 DNS / DAINIPPON SKW-629 #9181757 待售

DNS/DAINIPPON SKW-629是一种用于半导体加工的负音、正作用光刻设备。它是一种先进的化学放大光刻胶，与各种光学曝光工具兼容。DNS SKW-629的设计旨在优化先进光刻工艺控制要求的产量和性能。它提供卓越的分辨率、出色的边缘依赖性和高对比度。光致抗蚀剂在广泛的曝光环境中提供出色的抗蚀性性能。它的低剂量灵敏度有助于减少工艺时间，简化晶圆图样。DAINIPPON SKW-629抗蚀剂具有优于其他弓形抗蚀剂系统的干蚀性，在等离子体蚀刻应用中确保了很强的均匀蚀刻效果。它还具有碳隔离层，提高了蚀刻速率精度，产生更好的均匀性。该系统还具有在长时间暴露于多个紫外线（UV）灯后提高的薄膜稳定性。该设备设计为具有改进的成像特性,并提供出色的照片排便特性。它能够创建从亚微米到单层到高级多层设计的各种功能。抗蚀剂还提供了出色的轮廓控制,允许设计更均匀的特征,并缩短曝光时间以减少工艺时间。该机与多种元件兼容，包括SEMI Standard清洁产品、蚀刻剂、开发者和气相沉积材料。抗蚀剂非常适合用于3D结构,因为它可以使用最小的积水进行阵列设计,从而使最终产品变得简单易用。最后，SKW-629抗蚀剂可用于最流行的湿法加工化学品，确保整个过程的兼容性和质量。总体而言,DNS/DAINIPPON SKW-629光刻胶工具旨在在各种半导体制造应用中提供高质量、可重复的结果。它提供卓越的分辨率、快速的曝光时间和改进的蚀刻阻力。抗蚀剂提供出色的轮廓控制,允许为更统一的最终产品创建多种功能。此外，该资产与广大行业标准零部件和清洁产品兼容。其全面的特点使其成为现代芯片制造中先进光刻的理想选择。