二手 EATON / LSI 6000 & 6000XL #29581 待售

EATON/LSI 6000&6000XL光阻系统是专门为生产半导体而设计的工业系统,如图像传感器、内存芯片和微处理器。光致抗蚀剂系统涉及使用光来绘制半导体的元件图样。该6000XL是原始6000设备的更新版本,提供了更大的工艺区域、改进的性能和更好的可扩展性。LSI 6000的设计采用了10 x 14英寸的大工艺面积，允许在单个光刻胶系统中产生多种图桉。目标的初始曝光是由数字掩码对齐器（DMA）完成的,它将所需的光模式投射到目标基板上。该单元采用全场扫描（FFS）技术，允许更精确的图样基板。此技术还消除了手动调整DMA以确保准确性和一致性的需要。此外，EATON 6000可用于曝光后平滑（PES），该工艺可以平滑半导体元件的侧壁，以提高性能。此外,机器还配备了自动曝光验证（AEV）功能,可根据参考标准自动检查曝光读数的准确性。这有助于确保准确性和过程一致性。最后,EATON/LSI 6000XL提供了比标准6000更好的性能和可扩展性。这款升级车型配备了更大的20 x 30英寸工艺面积，改进了FFS技术，改进了用户界面。此外,该工具还可以升级到标准的曝光后平滑过程,从而允许用户相应地自定义其设置。总之,LSI 6000&6000XL光刻胶系统是专门为生产和制造半导体元件而设计的.与最初的6000型号相比,这些系统提供了更好的性能和可扩展性,并具有DMA、FFS和PES等多种功能。最后，升级后的型号还采用了AEV，以提高精度和工艺一致性。