二手EBARA(光阻)待售

EBARA是一家信誉卓着的制造商，提供一系列广泛应用于半导体制造工艺的光刻设备。这些系统因其卓越的性能和可靠性而广受欢迎。EBARA提供各种具有独特功能和优势的类似物，满足不同的客户需求。UFP 200A是它们值得注意的光致抗蚀剂装置之一。该系统旨在为各种基材提供具有出色粘合性能的高分辨率阵列功能。它具有优异的抗蚀性和较高的对比度，适用于先进的光刻工艺。另一个系统是UFP 300A,它提供卓越的分辨率和成像能力。它显示出最小的线缘粗糙度和高模式保真度,从而提高了设备性能。UFP 300A对化学和等离子体蚀刻工艺具有很高的抵抗力，适合苛刻的制造环境。EBARA还提供CADS HVM（大体积制造）光刻胶系统。该系统专为高通量生产环境而开发,可提高生产效率,同时保持卓越的光刻性能。CADS HVM以出色的涂层均匀性、抗敏感性和线宽控制而着称。总体而言,EBARA的光刻机（包括UFP 200A、UFP 300A和CADS HVM）为半导体制造过程提供了先进的解决方桉。这些工具具有独特的优势,例如高分辨率、出色的附着力、低线缘粗糙度以及与高通量生产环境的兼容性。