二手 EDWARDS XE-200 #9070677 待售

EDWARDS XE-200是一种光刻设备，设计用于生产高精度图样和表面特征。系统使用光有选择地改变暴露的曲面。裸露的表面是被涂上光刻胶的表面。光致抗蚀剂系统用于各种应用，但XE-200特别适合于需要近距离公差控制的精确线型。EDWARDS XE-200由先进的光学器件组成，包括高分辨率显微镜和扫描透镜单元，以及用于照明的LED线性阵列。显微镜的放大倍率范围为20倍至60倍，而扫描透镜的视野为1.2毫米。两种镜片组合后可达到的总景深为0.2毫米。LED阵列提供视野的统一覆盖,并提供四个预编程曝光范围。除了光学之外,XE-200还具有高级软件控制功能。集成的用户界面使配置和调整曝光参数变得容易。再者，它使X-Y阶段的精确位置控制得以实现，让用户快速准确地移动平台。软件还允许定制曝光模式的配置文件，这使得机器只需单击几下鼠标即可重现相同的模式。最后，EDWARDS XE-200采用先进的掩蔽技术来精确控制暴露表面的形状和大小。这是通过使用专门的蒙版来抑制光刻胶的某些区域并暴露其他区域来实现的。该工具还具有多种尺寸的掩码,使其能够创建更复杂的模式。这种掩蔽技术在尝试创建具有非常接近公差的特征时特别有用。总体而言,XE-200是一种高性能的光刻胶资产,旨在在表面上产生复杂、高精度的图桉。凭借其先进的光学、软件和掩蔽技术，该模型能够创造出前所未有的分辨率和准确性的线条模式。无论是工业应用还是科学应用,EDWARDS XE-200都能提供最佳的光敏生产精度.