二手 EIKO IB-3 #293793575 待售

EIKO IB-3是为双层和三层光掩模设计的下一代光阻设备,它利用专用的先进技术来确保高度精确的对准和高灵敏度的曝光性能。该系统能够使用1微米精度和0.55nm分辨率的高分辨率扫描头生产单层、双层和三层光掩码。它还配备了高速掩模处理器，用于快速测量线宽、均匀性、接触孔等光掩模参数。此外，它的薄膜蚀刻模块允许高精度去除阳性抗蚀剂进行曝光和蚀刻。在精度方面，IB-3可以可靠地产生小至0.2-0.3微米的线宽，集成的实时曝光稳定性为± 100nm/5s。它产生高精度线条的能力通过使用能控制光束形状同时减少曝光时间的光束面板而进一步增强。该装置的自动对准机允许以0.1微米的精度进行高度精确的对准测量，而其高灵敏度的光阻能可靠地产生多层复杂的布局。最后,EIKO IB-3非常可靠,具有"零"缺陷率,并且具有独立功能,使其成为要求苛刻的光刻工艺的理想选择。其强大但易于使用的图形用户界面支持光刻工艺的所有阶段，其集成的可追踪性功能确保了数据的准确性。此外,其先进的维护服务设计可方便维护和维修,确保其在大批量生产环境中的可靠性能。