二手 ETS / LINDGREN ETN-1100-110 #9078435 待售

ETS/LINDGREN ETN-1100-110光刻设备是一种高精度、最先进的光刻系统，设计用于多级面罩制作和微电子封装应用。该单元能够在每个特征的分辨率高达10,000纳米的光刻层上曝光图样。它使用传统的405纳米激光二极管作为光源，以及一些精确的光学元件，从而能够可靠和一致的模式生成。ETS ETN-1100-110机器具有两个掩码,可用于将光掩码传输到基板上。该工具的高精度设计包含了计算机控制的精密扫描资产,允许包括索引、现场扫描和阵列放置在内的各种曝光参数。该模型允许用户选择直径从10到10,000纳米的任意范围的场和特征大小。该设备还具有强大的光学元件定制和对准功能,有助于确保口罩制作过程的准确性和精确度。LINDGREN ETN-1100-110可以编程为复杂的模式复制,从而实现广泛的应用,包括印刷电路板、布线图和复杂的集成电路。除了这些功能外,ETN-1100-110还包括自动透明对齐（TA）功能,旨在确保在为多级掩码创建精美图桉时对齐的准确性和可重复性。TA系统包括在曝光前精确定位光掩模的对准级和电动级。为了确保设备的最佳运行,ETS/LINDGREN ETN-1100-110包括复杂的过程控制功能和诊断,以及最新的环境和安全保护功能。机器包括一个互锁工具，设计用来防止人员在操作过程中进入工具。此外，ETS ETN-1100-110还包括一些额外的安全功能，包括不开门政策、安全眼镜、防护服和安全警报。综上所述，LINDGREN ETN-1100-110是一种用于高精度掩模制作和微电子封装的坚固可靠的光阻资产。它是一种完美的工具,可在分辨率高达10,000纳米的光刻胶层上设计各种图桉,并具有强大的光学元件定制和对齐功能以及自动化的TA功能。该模型还包括多项安全特性和精密的过程控制功能，使其能够安全有效地使用。