二手 EVG / EV GROUP 101 #293590409 待售

EVG/EV GROUP 101光刻设备是一种模块化、先进的光刻系统，用于生产半导体和其他微电子元件。该单元结合了光学近似校正（OPC）与先进的设计能力，以生产具有优越图像质量的精确图案薄膜。该机器利用各种光刻曝光和曝光后处理步骤来创建和开发胶片图样。模块化设计允许根据特定项目的需要定制工具。核心组件包括光学模块、曝光模块、资产控制模块和软件。光学模块由精密投影镜头、曝光缝隙和真空柱组成。此模块用于将图样投影到曝光介质上。曝光模块使用高强度汞弧灯提供曝光能量。接触剂量控制器和传输有助于将接触物传递到介质。模型控制模块是操作的大脑，控制所有被曝光的薄膜。它还具有用于公开特定材料类型的预先配置的选项。各种软件应用程序可用于模式设计、模拟和优化,以及曝光后处理。光刻设备还允许多层的自动曝光，允许其用于生产复杂的微电子元件。模块化设计，以其高质量的光学，使系统能够产生极好的水平的亚微米分辨率和临界几何形状，具有良好的均匀性和尖锐的地形。该设备的设计非常方便用户使用,可实现低生产成本、高产量和适应苛刻技术的灵活性。它是光刻工艺生产多种微电子元件的关键部分。EVG 101的Photoresist Machine凭借其高精度、灵活性和用户友好的界面，是任何微电子元件制造商的绝佳选择。