二手 EVG / EV GROUP 101 #293590418 待售

EVG/EV GROUP 101光致抗蚀剂设备是一种最先进的化学处理系统，用于在基板上对金属膜进行图案化和蚀刻。该装置利用先进的光学、电子束和化学技术相结合，在广泛的金属薄膜和基板上产生具有高分辨率能力的图样。EVG 101光刻机设计为在基板上沉积金属膜时达到高精度。各种金属可以以不同的厚度沉积，刀具有能力根据每种单独基板的特性来调整蚀刻性质。例如，对于单个基板，可以根据不同厚度的金属沉积来调整光刻胶资产的光学特性，从而形成特定大小的图样。EV GROUP 101模型利用高级流程进行高分辨率阵列。光刻设备的电子束光刻（EBL）技术采用微调电子束，可以在基板上绘制不同形状和大小的图样。然后，系统使用光敏材料来构造金属膜，以便创建所需的图样。光致抗蚀剂材料首先应用在基板上的薄层中，然后根据所需图样的要求进行不同剂量的曝光。一旦曝光，发达的光刻胶材料充当掩模，EBL单元可以用来将所需图桉的形状传递到基板上。这种暴露和发展的过程最终在所需的基板上形成一个具有预定形状的图样。101机也提供了有效的蚀刻方法。在基板上阵列所需的图样后,刀具使用蚀刻工艺来物理去除薄膜中不需要的部分。蚀刻过程是由光致抗蚀剂材料和金属膜之间的化学力、底物内电阻率的差异或底物中各种离子的存在所驱动的。这些化学力相互作用，去除了薄膜中没有被光刻胶材料覆盖的部分，以创造最终的模式。EVG/EV GROUP 101光致抗蚀剂资产是在各种金属薄膜和基板中产生高度精确和复杂图样的有效工具。先进的光学、电子束和化学技术的结合，使得通用的模型适合于半导体、微电子以及相关行业的许多应用。