二手 EVG / EV GROUP 101 #293657969 待售
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ID: 293657969
晶圆大小: 4"-6"
Spray coater, 4"-6"
Semi automatic with manual loading
Suitable for wafer sizes, 3"-8" (With proper chuck)
Coat module
Manual loading and mechanical pre-aligner (Pneumatically actuated)
Password protected access levels
PTFE Coat chamber for spin coating
Programmable rotational speed for substrate
Programmable arm for resist dispense and topside EBR
Cybor pump
(2) Solvents for external chemical cabinet
Previously used chemistry: 1813, 1827, Acetone and IPA
Hotplate
Resist processing module:
All electronics
Pneumatics
Tubing for solvents
Drain or dump container
Exhaust lines
Syringe dispense option
Operations manual and documentation.
EVG/EV GROUP 101是一种设计用于半导体工业的光阻设备。该系统的设计使材料薄膜能够精确蚀刻到晶圆上。蚀刻是使用光刻屏蔽工艺完成的。这一过程的工作原理是将晶片暴露在光照模式下。光源使光敏涂层在光线暴露的区域变硬，而在其他区域则保持柔软。然后可以很容易地蚀刻掉这种柔软的材料,以便在晶圆上创建图样。EVG 101光致抗蚀剂单元包括多个组件。机器从一个光源开始，该光源用于在晶圆上投射光的图桉。该光源可以是激光、高强度发光二极管（LED）阵列或任何其他能够提供精确光模式的设备。然后使用光掩码有选择地阻挡光线到达晶圆的某些区域。这将创建蚀刻图桉。该过程的下一步是在晶片上应用光致抗蚀剂。这种光致抗蚀剂是一种材料薄膜，它将覆盖晶圆并保护其免受蚀刻过程的影响。它在暴露于光线模式的区域变硬，而在被面罩阻挡的区域则保持柔软或可蚀刻。根据要蚀刻的材料类型,可以使用不同的光刻胶。EV GROUP 101光致抗蚀剂工具还包括一个用于光致抗蚀剂的反应站。该站旨在为光刻胶提供受控环境。它由真空室、温度控制资产和紫外线光源组成，以激活光刻胶。该模型还带有一个激光站，用于创建光掩模。这个激光站的工作原理是将一个光的图样投射到一个面罩上，然后蚀刻掉暴露在光线下的区域。光掩码可以多次使用，在其他晶片上创建相同的图样。101光刻设备的最后一个部件是蚀刻站。这是执行蚀刻过程的地方。蚀刻过程采用真空室和化学处理相结合的方法完成。EVG/EV GROUP 101光阻系统对于在半导体工业中使用的晶片上创建精确的图样至关重要。该单元可实现精确的模式控制和优异的效果。该机也易于使用，甚至可以由经验不足的人员操作。由于这些原因，EVG 101光刻工具继续成为许多半导体制造商的热门选择。
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