二手 EVG / EV GROUP 101 #293749961 待售

EVG/EV GROUP 101是为满足现代光刻的需要而开发的一种用途广泛且精密的光刻设备。它基于电子束、反应性离子蚀刻（又称E-Beam）的原理，将非常薄的光刻胶层精确地沉积在各种底物上。该系统旨在为一系列应用程序和要求提供可靠和一致的蚀刻功能。EVG 101单元由枪、显微镜和电子束发生器组成。电子束是由安装在机器顶部并包含电子枪电源和真空室的枪产生的。在真空室内部，电子被操纵并聚焦到掩模上，掩模保持着光刻胶图样。显微镜可以对电子束进行精确的对准和扫描。光致抗蚀剂在暴露于显影剂和交联剂化学物质之前，先通过电子束施加在基板上（通常是晶片）。这两个过程分别称为光沉积和光降解，形成成品的光致抗蚀剂，然后将其应用于晶片。在E-Beam过程中，以弧形运动操纵和移动枪。这种弧状运动被称为涡旋运动（Vortex Motion），它允许光束在扫描基板时既快速又准确，允许精确和干净的蚀刻结果。光束通过计算机软件持续控制，整个过程都受到仔细监控。光敏沉积过程允许高分辨率、多层的光敏层沉积。它还能够结合各种抗蚀层，使制造出非常薄的（微尺度）图桉。此外，该工具能够直接蚀刻和包覆孔和各种其他结构，以及为功能性金属化提供高分辨率模式。EV GROUP 101资产是先进光刻工艺的可靠、经济实惠的平台。其高分辨率的能力、耐用的构造和高度可控的电子束，使其成为一种可靠、用途广泛的光刻胶模型，可满足各种先进的生产需求。