二手 EVG / EV GROUP 101 #293751585 待售

EVG/EV GROUP 101是先进光刻设备的领先供应商EVGroup制造的光刻设备。该系统设计用于生产高分辨率、高性能的微电子器件，这些器件是由III/V材料制成的，如砷化氙（GaAs）或硅氙（SiGe）。EVG 101单元包括深紫外线（DUV）光掩模对准器、紫外线步进器、阻挡带工具和热烤箱。这些组件共同提供了基板的精确对准和曝光、卓越的光刻性能、快速的工艺能力以及获得专利的低温抗蚀条。深紫外光掩码对准器的设计目的是在很大的角度和间距范围内快速准确地将抗蚀剂覆盖的晶片定位到定制的光掩码图样上。UV步进器允许使用DUV辐射对精细的详细结构进行精确和可重复的晶圆打印。抗蚀带工具用于显影后光刻层的开发和去除，而热烤箱在不损坏底层材料的情况下提供合适的热退火，这是制造高性能微电子器件光刻过程中的关键步骤。使用DUV, EV GROUP 101机器能够产生高分辨率的图样,其特征尺寸可降至0.2微米（0.00008英寸）,具有很高的覆盖精度和稳定性。该工具还支持多种曝光模式，以实现优化的生产力和产量，同时在一个周期内执行多个对齐和曝光步骤。除了传统的光刻之外，101资产还与化学辅助离子束蚀刻（CAIBE）、低能离子束蚀刻（LEIBE）等先进技术兼容；两者都被用来精确地成形和跟踪图样成图样的晶体，具有更高的精度和分辨率。EVG/EV GROUP 101型号是业界领先的微电子器件制造应用解决方桉,提供高精度和高性能光刻技术,用于生产复杂、精密的VLSI和MEMS器件。它经过优化,以满足最严格的晶圆厂环境要求,并提供卓越的准确性、灵活性和性能。