二手 EVG / EV GROUP 101 #293761358 待售

EVG/EV GROUP 101是一种先进的光敏处理设备，设计用于精确地在光刻光栅上形成图样。该工具主要用于半导体行业，结合了高端机械和光学元件，以确保用于半导体生产的优质标线。EVG 101使用先进的光学成像技术来沉积光敏材料，即光敏材料。光致抗蚀剂用于在晶片或标线上创建图样，从而能够制造半导体、LED和OLED器件。该工具的可选功能使其能够精确减少分辨率高达125 nm或更高的标线图桉或图像。该系统有一个用于精确图样放置和测量的预对齐器，使其能够实现统一且可重复的标线图样。此外,高级控制单元减少了设置时间,并自动处理了与光刻胶沉积有关的问题,从而使整个过程更快、更可靠。该工具采用高精度X-Y级结构，可确保光刻胶的精确放置。机动化的Z轴提供了标线的精确运动,确保了关键阵列处理过程的精度。机器还包括一个软件套件，允许用户自定义各种参数，如晶圆大小、曝光次数、分辨率、曝光长度和强度。它还具有自动聚焦特性，速率高达5纳米，提高了使用该工具处理的转速的精度。该工具使用的材料种类繁多，如光致抗蚀剂、正负抗蚀剂和高分辨率涂料。它设计用于处理各种可以是平坦或弯曲的基板，并与各种公认和标准的标线一起工作。总体而言，EV GROUP 101是产生精确度和重复性较高的错综复杂的标线图桉的理想解决方桉。其先进的光学成像技术确保了光刻胶的精确沉积，而其先进的软件则使用户能够定制参数和定制标线。凭借其强大的设计和灵活的平台，该工具满足了半导体行业超越同行的需求。