二手 EVG / EV GROUP 101 #9229818 待售

製造商
EVG / EV GROUP
模型
101
ID: 9229818
晶圆大小: 6"
Spray coater, 6" Can be configured for 8" Coat module Cleaning module Base frame for one resist processing module: Electronics Pneumatics Tubing for solvents Exhaust lines Semi-automatic manual loading and mechanical pre-aligner PC Controlled with Graphical User Interface (GUI) Password protected access levels Programmable rotational speed for substrate Syringe dispense for spray nozzle option Spinner chucks for 1"-3" and 4"-6" wafers (4) Floor mounting brackets Vacuum wand for wafer handling Exhaust controller Manual included.
EVG/EV GROUP 101光刻设备是一种用于光掩模和光刻生产行业的高精度光刻系统。它设计用于在薄片上进行精确、均匀和可重复的光刻胶操作,为微加工和半导体器件制造提供了理想的工具。EVG 101是由多轴分割轴构造提供动力的精密成像单元。机器由一个毯子部分、基板处理部分和光学成像部分组成。毛毯部分包括毛毯清洁涂层室、多轴基板级、分束器和图桉对准工具。基材加工段包括预涂室、预涂单体储层、装载室、软烘烤站、曝光站、后烘烤站和开发站。光学成像部分由双激光光源、光学扩散器和标线组成。EV GROUP 101光阻资产具有投影光刻、光学投影步进器、准分子激光光刻等高精度成像操作能力。该模型具有高度自动化的成像过程,包括预涂层、图样对齐、曝光、烘烤后、开发和多路径成像模式。在成像过程中,可以使用先进的检测算法来分析基板上图样的均匀性和准确性。这款设备还可以专注于分辨率极好的非常小的特性。此外,该系统还设计用于加工模具尺寸可达350毫米的基板。101是为严格生产要求而设计的坚固可靠的单元。它与各种光致抗蚀剂材料兼容,为各种应用提供了最佳的基板加工工艺。该机还可以与化学机械平面化、喷涂涂层、分子自组装等先进技术相结合。EVG/EV GROUP 101光刻工具为用户提供卓越的性能和灵活性。它能够为各种应用高效、精确地生产精密的光掩模和薄片,使其成为高精度光刻操作的理想选择。
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