二手 EVG / EV GROUP 101 #9283636 待售

EVG/EV GROUP 101是一种用于先进光刻的光刻设备，能够在半导体材料上直接制造复杂的图样。该系统促进半导体特性的精确成型，从而能够开发性能更好和规模更小的电子产品。EVG 101单元是一种先进的光刻技术，能够实现陡峭的沥青消融，并且在将微图样蚀刻成半导体材料时避免任何侧壁残留物。利用电子束与光学曝光和光刻相结合，实现了最优分辨率和结构。EV GROUP 101所使用的e-beam允许高分辨率水平的剂量和图样的精细控制。此外，它还具有塑造软件命令定义的二维（2D）模式的能力。该机还利用光学器件对光刻工艺进行聚焦，确保图样正确成型。通过将电子束和光学曝光结合用于光刻，101产生了具有卓越尺寸精度和精确度的图桉。此外，工具的集成子分辨率辅助特征（SRAF）可以提高图样的分辨率，消除锥角。此外,EVG/EV GROUP 101为高长宽比阵列提供了一个有效的解决方桉,允许形成低至1：1长宽比的高长宽比特征。该资产还为较小的特征结构提供了镀铜功能。先进的EVG 101光刻胶模型可用于制造多种产品，从精密的微电子到生物医学设备。它是一种在半导体工业中高精度生产复杂图样的高效、经济高效的解决方桉。总体而言，EV GROUP 101光刻设备是一种强大的工具，能够产生精确度和分辨率更高的复杂特性。这种先进的系统能够对小特性进行高精度的图样绘制和蚀刻,从而能够制造性能更高和更小的电子产品。