二手 EVG / EV GROUP 105 #9245282 待售

EVG/EV GROUP 105是用于半导体掩模制作、晶圆级封装和其他先进光刻应用的光刻设备。该系统旨在提供高精度和精密的光刻处理,同时保护细腻的模具不受强能量的影响。其先进的功能包括用于强大成像性能的自动对焦单元、用于减少晶圆运动以提高精度和吞吐量的专利无触摸卡盘技术,以及用于改善覆盖和精度的集成三维掩模对准扫描仪。EVG 105机可配置用于多种光刻过程，包括紫外线（UV）曝光、光刻、蚀刻和沉积。它利用KrF （248nm）和ArF （193nm）源等高功率紫外线激光器,以及先进的光学器件来提高工艺精度。该工具包括高分辨率、低缺陷光学器件,以最大限度地提高照片图像分辨率。为了提高图像清晰度,资产配备了复杂的图像分辨率验证工具,如点-扩展-功能分析。该模型的先进、高度灵敏的模级对齐模式识别算法也能最大限度地减少错误的对齐，并在具有挑战性的模式识别形式中实现改进的结果。设备进一步配备了尖端软件和先进的自动化能力，允许快速处理，提高吞吐量和高产率。EV GROUP 105具有集成的、高度可配置的晶片处理系统,可快速、精确地加载和卸载晶片,以及安全的存储解决方桉。它还包括一个通用晶圆运输手推车，以减少开销成本，并确保晶圆往返设备的安全运输。该机配备了几种安全功能，包括主动式空气冷却工具、卤素灯、主动式气体冷却资产和紧急停止模型（Cassavant）。所有这些功能都是为了确保设备以及在运行的样品和人员的正常操作和最大的安全。总之，105光致抗蚀剂系统是半导体掩模制作、晶圆级封装等先进光刻应用的强大、高质量、准确的解决方桉。它提供了一系列强大的功能,包括高级光学、自动对焦和集成模式识别算法,以提高性能。此外，一系列的安全功能提供了精密光刻操作所需要的安心。