二手 EVG / EV GROUP 120 #293651179 待售
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EVG/EV GROUP 120是用于光刻工艺的光刻设备，用于广泛的精密应用。光刻是一种利用光敏材料称为光敏材料将图样蚀刻成基板（如硅片）的过程。EVG 120光刻系统将先进光刻设备的性能与自动化平台的用户友好性相结合，高效处理复杂的光刻工艺。EV GROUP 120光抗蚀剂单元包括一个中等分辨率成像平台，支持1到200晶片的批量尺寸，最大晶片尺寸为200 mm。该机器利用先进的光学器件，包括集成的掩模对准器，将图桉暴露在直径达6英寸的晶片上。采用亚微米分辨率级和0.2 μ m以下的覆盖精度，实现了高精度晶圆对准。该工具能够通过激光或紫外线辅助舞台运动定位、制图和透射束扫描。它能够揭示非均匀掺杂区域、热点迭加等先进技术和尽可能高的吞吐量。光刻胶资产具有用于精确计量和基板表面质量的自动光刻胶处理模块。它在暴露前后控制抗蚀剂涂层晶片，以创建精确、均匀的抗蚀剂图桉。该模块还提供了对光刻胶温度、曝光深度和抵抗浓度的精确控制。该模型还包括一个单步开发者，它提供高穿透，精确的抗厚度控制，精确的横向分辨率，和低变化。开发人员设计为与所有光刻胶兼容,具有动态清洁模块,可执行端点检测并去除不需要的抗蚀剂。集成的边缘取珠设备可确保清洁的基板边缘,并清除剩余的抗蚀剂。120的设计考虑到了低环境影响,提供了一个操作温度范围为20至55°C的紧凑高效的系统,从而减少了功耗和资源消耗。所有这些特性使得EVG/EV GROUP 120光刻装置成为需要精确、高效和低成本制造的光刻工艺的理想选择。
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