二手 EVG / EV GROUP 301 #293606591 待售

EVG/EV GROUP 301是光刻光刻的理想设备，是纳米和微电子制造业光掩模和转移工艺的先进技术。它设计用于微电子表面上图样和曝光过程的精确对准。这种光刻胶系统可实现高分辨率、全自动光刻，极窄的特征尺寸高达6 µm，这在业界是前所未有的。它也非常可靠,能够使用高真空和出色的特征分辨率功能。EVG 301光刻装置配备了多种特性，使其能够处理多种尺寸可达200毫米的晶圆。它有一个用于曝光晶片的大功率紫外线光源和一个用于将晶片投影到晶片上的图样投影仪。机器还能控制曝光剂量、位置、焦点和变焦。此外，它采用了若干传感器和反馈系统，确保晶片定位和曝光过程的高精度和精确度。该工具还配备了剂量定时和定位以及计量和模式的综合控制。这样就可以完全控制和调节整个光刻过程，从对齐和曝光到印刷。此外,资产还包括一个自动清洁循环,该循环定期清洁光掩模和晶圆表面,从而确保可重复和准确的结果。EV GROUP 301光刻胶型号极为用户友好，为用户提供了多项好处。它能够产生极高分辨率的图像，其特征大小小至6 µm，设计用于短波和中波紫外线和真空室环境。它还提供准确的登记数据，可用于控制模式和接触过程，不需要人工干预，并确保一致的高质量结果。