二手 EVG / EV GROUP 301 #293648317 待售
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EVG/EV GROUP 301光阻设备是一种抗蚀剂处理系统,旨在确保先进半导体器件的高质量、经济高效的制造。该单元设计为与各种光刻胶配方兼容，为用户提供了满足其特定应用要求的灵活性和多功能性。机器的核心部件是抵抗装置和曝光装置。抗蚀剂装置配有专有的单密封涂层平台和气动配气阀，以及一个后加工灭火站。此组合确保了可重复、可靠的工艺,并最大程度地减少了薄膜厚度的变化。分配量、应用速度和压力可以变化和调整以达到最佳处理效果。曝光单元包括高性能、可变波长、短脉冲激光曝光工具。这种暴露资产能够以高时间分辨率和高空间分辨率控制暴露点的大小和暴露强度。它还具有一个具有较大光学窗面积的曝光板和一个可调节的光学针脚，以便在整个视场上增加曝光均匀性。EVG 301 Photoresist Model有多种集成的多工序和外围元件，包括激光成像、切片和光刻工艺。该设备将用于自动边缘检测和闭环控制过程的边缘计时器与易于使用的软件集成在一起，具有可变的照明设置，以实现精确、可重复和可靠的曝光。EV GROUP 301光抗蚀剂系统设计并实现了一系列安全特性，以确保安全高效的工作环境。这些功能包括硬件和软件控制的组合,以及各种互锁、隔离电路和内置在单元中的安全性。该机还设计为最大限度地减少背板效果，这会导致与高分辨率光掩模的对准和配准问题。301 Photoresist Tool还可以与各种专门的外围设备和组件集成，如自动粒子检测、液浸系统和自旋涂层设备。综上所述,EVG/EV GROUP 301 Photoresist Asset是一个可靠且高度可定制的平台,用于实现从原型设计到大批量生产的各种应用程序的经济高效且精确的抗蚀刻解决方桉。其集成的安全功能为用户的应用提供了安全的工作环境。它的多过程和外围组件为用户提供了灵活性、精确度和可重复性。
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